作业帮等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量 刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?刻蚀率y（单位A/m）,电极间间隙X1（单位cm）,气流（单位SCCM）,和应用在阴极的RF功率（W）是三个影响因素,实验中
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/04/28 08:59:38
xSMoA+M,ˮ%M7/zЃ/
*e-"
tK)RLڦ%)-=/8 ^{1&&sgyD%zZG#|Ző۴sJl۽OȠ hdzDEnf+sSnHF:/M1\q9?FQ*6,N)\3vj>369'9ۘWV0~_5Z;ƭc1d#{w>a[sJg]{ :pu,gT]RT\kvJ@ HϿ"0XnГ9[2 4ϲ=E| Bm| Gv< .I;(gD9홒,'>W \f][Od-KI3Φ3AUI/Z:ŽN$u%ͽL,"/V$2յE CRDCHܐT$^ =Tވ @Pdz4J
uI>1F^EEf@CސCY %!zaomwѸ^z2;50
,_9[d~
[(1I? y
等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量 刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?刻蚀率y（单位A/m）,电极间间隙X1（单位cm）,气流（单位SCCM）,和应用在阴极的RF功率（W）是三个影响因素,实验中
等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量 刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?
刻蚀率y（单位A/m）,电极间间隙X1（单位cm）,气流（单位SCCM）,和应用在阴极的RF功率（W）是三个影响因素,实验中只有16组数据并且有一半自变量是一致的但刻蚀率相差很多,不知道如何处理,能用量纲分析吗?
等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量 刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?刻蚀率y（单位A/m）,电极间间隙X1（单位cm）,气流（单位SCCM）,和应用在阴极的RF功率（W）是三个影响因素,实验中
你这里的 刻蚀率应该是,硅氮化物的可是速率与掩膜的比值.