作业帮为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?mos器件的缩小比例为什么是0.
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/05/02 02:45:33
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为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?mos器件的缩小比例为什么是0.
为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?
mos器件的缩小比例为什么是0.
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为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?
答：光刻是利用一种叫光阻剂的材料通过曝光显影来完成的,这种光阻剂只有在黄色是管线下才不会被曝光,当需要曝光的时候会在一台专门的设备里曝光!
对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?
答：等级分为万级,千级,百级,十级,比如说万级就是1立方空间里要小于等于10000颗尘埃
具体怎么选用那要看工艺要求
为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?mos器件的缩小比例为什么是0.
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